全站搜索結(jié)果：
產(chǎn)品：0個
新聞
-
近年來，隨著新材料的開發(fā)，尤其是薄膜材料的發(fā)展和應(yīng)用，帶動控濺射沉積技術(shù)的飛速發(fā)展，在科學(xué)研究領(lǐng)域和工業(yè)生產(chǎn)中有著不可替代的重要作用。本文主要介紹了控濺射沉積鍍膜技術(shù)的工藝過程及其發(fā)展情況，各種主要磁控濺射鍍膜儀的特點，并介紹磁控濺射技術(shù)在
發(fā)布時間：2019-05-10 點擊次數(shù)：329
-
由于磁控濺射鍍膜儀的難點是靶材表面的磁場達不到正常磁控濺射時要求的磁場強度，因此解決的思路是增加鐵磁性靶材表面剩磁的強度，以達到正常濺射工作對靶材表面磁場大小的要求。實現(xiàn)的途徑主要有以下幾種：a、靶材設(shè)計與改進b、增強磁控濺射陰極的磁場c、
發(fā)布時間：2019-05-10 點擊次數(shù)：164
-
磁控濺射鍍膜儀的操作規(guī)范1.正常工作的磁控濺射鍍膜儀在開動時，需要先將水管打開，在磁控濺射鍍膜儀運行之中要時刻注意水壓的狀態(tài)；2.在離子轟擊和蒸發(fā)時，要特別注意線路方面的情況，不得觸動高壓線頭，以防觸電；3.在用磁控濺射鍍膜儀的電子槍的時候
發(fā)布時間：2019-05-10 點擊次數(shù)：219
-
磁控濺射鍍膜儀技術(shù)發(fā)展趨勢等離子體濺射的基本過程是負極的靶材在位于其上的等離子體中的載能離子作用下，靶材原子從靶材濺射出來，然后在襯底上凝聚形成薄膜；在此過程中靶材表面同時發(fā)射二次電子，這些電子在保持等離子體穩(wěn)定存在方面具有關(guān)鍵作用。濺射技
發(fā)布時間：2022-02-10 點擊次數(shù)：35
-
磁控濺射鍍膜儀技術(shù)的發(fā)展及應(yīng)用濺射鍍膜是指在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶材表面，通過粒子動量傳遞打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基體上形成薄膜的技術(shù)。濺射鍍膜技術(shù)具有可實現(xiàn)大面積快速沉積，薄膜與基體結(jié)合力好，濺射密度高、針孔少，膜層
發(fā)布時間：2022-02-18 點擊次數(shù)：47
-
磁控濺射鍍膜儀的種類磁控濺射品種磁控濺射包括很多品種。各有不同作業(yè)原理和使用目標。但有一共同點：使用磁場與電場交互作用，使電子在靶外表鄰近成螺旋狀運轉(zhuǎn)，然后增大電子撞擊氬氣發(fā)生離子的概率。所發(fā)生的離子在電場作用下撞向靶面然后濺射出靶材。靶源
發(fā)布時間：2022-04-20 點擊次數(shù)：38
-
磁控濺射鍍膜儀的原理！磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！用磁控靶源濺射金屬和合金很容易
發(fā)布時間：2022-04-19 點擊次數(shù)：37
-
磁控濺射鍍膜儀的特點！磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！磁控濺射是物理氣相沉積（PhysicalVap
發(fā)布時間：2022-05-31 點擊次數(shù)：55
-
磁控濺射鍍膜儀設(shè)備應(yīng)用廣泛，磁控濺射鍍膜主要有汽車反光網(wǎng)、工藝品、首飾、鞋帽、鐘表、燈具、裝飾、手機、DVD、MP3、PDA外殼、按鍵、化妝品外殼、玩具、圣誕禮品等行業(yè)；PVC、尼龍、金屬、玻璃、陶瓷、TPU等。磁控濺射鍍膜設(shè)備跟真空磁控濺
發(fā)布時間：2019-05-13 點擊次數(shù)：59
-
由于要在特定條件下，因此磁控濺射鍍膜儀設(shè)備要滿足真空對環(huán)境的要求。制定的各種磁控濺射鍍膜儀的行業(yè)標準(包括磁控濺射鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件、真空離子鍍膜設(shè)備、真空濺射鍍膜設(shè)備、真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備)都對環(huán)境要求作了明確規(guī)定。只有滿足了真空電鍍機對環(huán)
發(fā)布時間：2019-05-13 點擊次數(shù)：98
-
磁控濺射鍍膜儀設(shè)備發(fā)展至今，在工業(yè)方面顯的極為重要，其作用范圍廣泛，徹底的改變了傳統(tǒng)的鍍膜行業(yè)。使得鍍膜作業(yè)在生產(chǎn)質(zhì)量方面以及效率方面都得到了較大的提升。那么磁控濺射鍍膜儀設(shè)備在工業(yè)中有什么優(yōu)勢呢？磁控濺射鍍膜儀設(shè)備主要有一下優(yōu)勢：1、沉積
發(fā)布時間：2019-05-13 點擊次數(shù)：51
-
磁控濺射鍍膜儀設(shè)備作為工業(yè)中常見的一種的幽默設(shè)備，其種類較多，按照電源類型劃分可以分為直流磁控濺射、射頻磁控濺射、中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備。一般情況下磁控濺射鍍膜設(shè)備采用的電源都是直流高壓電源，基本上都在300到1000V之間。采用這種電源的優(yōu)
發(fā)布時間：2019-05-13 點擊次數(shù)：87
-
磁控濺射鍍膜儀設(shè)備作為目前的的表面處理設(shè)備，其作用是非常大的，不僅使用范圍廣泛，在使用上還能夠給人們帶來便利。磁控濺射鍍膜儀具有以下顯著特征：1.成膜厚度工藝參數(shù)精準可控。通過調(diào)整爐內(nèi)氣壓、濺射功率、襯底溫度、磁場以及電場參數(shù)等，可方便地對
發(fā)布時間：2019-05-13 點擊次數(shù)：53
-
磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！磁控濺射是物理氣相沉積（PhysicalVaporDepositi
發(fā)布時間：2019-06-25 點擊次數(shù)：63
-
磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這
發(fā)布時間：2019-08-31 點擊次數(shù)：104
-
真空鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質(zhì)量，在現(xiàn)代鏡頭制造工藝上都要對鏡頭進行真空鍍膜。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞
發(fā)布時間：2019-09-18 點擊次數(shù)：62
-
磁控濺射技術(shù)在建材、裝飾、光學(xué)、防腐蝕、工磨具強化等領(lǐng)域得到比較廣泛的應(yīng)用,利用磁控濺射技術(shù)進行光電、光熱、磁學(xué)、超導(dǎo)、介質(zhì)、催化等功能薄膜制備是當(dāng)前研究的熱點。磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多
發(fā)布時間：2019-09-19 點擊次數(shù)：71
-
為了解決陰極濺射的缺陷，人們在20世紀70年代開發(fā)出了磁控濺射鍍膜儀，它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的弱點，由于被濺射原子是與具有數(shù)十電子伏特能量的正離子交換動能后飛濺出來的，因而濺射出來的原子能量高，有利于提高沉積時原子
發(fā)布時間：2019-11-07 點擊次數(shù)：50
-
磁控濺射系統(tǒng)是一種物理氣相沉積（PVD）。普通的濺射方法可以用來制備多種材料，例如金屬，半導(dǎo)體，絕緣體，并且具有設(shè)備簡單，易于控制，涂覆面積大，附著力強的優(yōu)點。磁控濺射鍍膜儀的工作原理是電子在電場E的作用下飛向襯底的過程中與氬原子發(fā)生碰撞
發(fā)布時間：2019-12-11 點擊次數(shù)：54
-
磁控濺射鍍膜儀設(shè)備作為現(xiàn)在的的外表處理設(shè)備，其效果是非常大的，不只使用范圍廣泛，在使用上還可以給人們帶來便利。磁控濺射鍍膜儀具有以下明顯特征：1、成膜厚度工藝參數(shù)精準可控。經(jīng)過調(diào)整爐內(nèi)氣壓、濺射功率、襯底溫度、磁場以及電場參數(shù)等，可方便地對
發(fā)布時間：2021-01-21 點擊次數(shù)：66
-
在使用磁控濺射鍍膜儀的時候，使用一般的濺射方法，發(fā)現(xiàn)濺射功率都不是非常的高。為了提高濺射的功率，加快工作的進度。那么該怎么加快這種設(shè)備的使用功率呢？這就需要添加氣體的理化功率。添加氣體的
發(fā)布時間：2019-12-23 點擊次數(shù)：74
-
磁控濺射品種磁控濺射包括很多品種。各有不同作業(yè)原理和使用目標。但有一共同點：使用磁場與電場交互作用，使電子在靶外表鄰近成螺旋狀運轉(zhuǎn)，然后增大電子撞擊氬氣發(fā)生離子的概率。所發(fā)生的離子在電場作用下撞向靶面然后濺射出靶材。 靶源分平
發(fā)布時間：2020-02-18 點擊次數(shù)：129
-
運用磁控濺射鍍膜儀設(shè)備對環(huán)境有什么要求嗎？由于要在特定條件下，因而磁控濺射鍍膜儀設(shè)備要滿意真空對環(huán)境的要求。擬定的各種磁控濺射鍍膜儀的行業(yè)規(guī)范(包括磁控濺射鍍膜設(shè)備通用技能條件、真空離子鍍膜設(shè)備、真空濺射鍍膜設(shè)備、真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)
發(fā)布時間：2020-04-08 點擊次數(shù)：68
-
在使用磁控濺射鍍膜設(shè)備的時候，使用一般的濺射辦法，發(fā)現(xiàn)濺射功率都不是非常的高。為了進步濺射的功率，加速工作的進展。那么該怎樣加速這種設(shè)備的運用功率呢？這就需求增加氣體的理化功率。增加氣體的離化功率能夠有用的進步濺射的功率。淺析磁控濺射鍍膜設(shè)
發(fā)布時間：2020-10-22 點擊次數(shù)：87
-
磁控濺射鍍膜儀有沒有輻射磁控濺射儀當(dāng)然有輻射，1、可見光波段：陰極發(fā)du射的電子電離zhi介質(zhì)氣體分子，dao分子/原子光譜。這些光密度不大，不至于刺傷鈦合金狗眼.屬于無害輻射。2、不可見光波段：陰極發(fā)射的電子電離介質(zhì)氣體分子，紅外/紫外
發(fā)布時間：2020-06-29 點擊次數(shù)：65
-
磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！磁控濺射是物理氣相沉積（PhysicalVaporDepositi
發(fā)布時間：2020-06-30 點擊次數(shù)：142
-
在鍍膜行業(yè)中，磁控濺射鍍膜儀是地位相當(dāng)特殊的一種設(shè)備。其出現(xiàn)的時候大幅度晚于其他類型的鍍膜設(shè)備，諸如真空鍍膜機、離子鍍膜機的規(guī)劃出產(chǎn)時刻都早于磁控濺射鍍膜設(shè)備。但在世紀的職業(yè)使用之中，
發(fā)布時間：2020-07-03 點擊次數(shù)：75
-
磁控濺射鍍膜儀是一種具有結(jié)構(gòu)簡略、電器操控穩(wěn)定性好等優(yōu)點的真空鍍膜機，其工藝技術(shù)的選擇對薄膜的功能具有非常重要的影響。磁控濺射鍍膜技術(shù)在陶瓷外表裝修中采用的工藝流程如下：陶瓷片→超聲清洗→裝夾→抽本底真空→plasma清洗→加熱→通氬氣→預(yù)
發(fā)布時間：2021-07-28 點擊次數(shù)：112
-
磁控濺射鍍膜儀是由二極濺射基礎(chǔ)上開展而來，在靶材外表樹立與電場正交磁場，處理了二極濺射堆積速率低，等離子體離化率低一級問題，成為現(xiàn)在鍍膜工業(yè)首要方法之一。磁控濺射與其它鍍膜技術(shù)比較具有如下特征：可制備成靶的材料廣，幾乎全部金屬，合金和
發(fā)布時間：2021-09-22 點擊次數(shù)：38
-
隨著科技的發(fā)展，使用磁控濺射鍍膜儀對顆粒狀物體鍍膜已經(jīng)不再是一件難事。特別是在顆粒狀金屬物體表面使用鍍膜技術(shù)已經(jīng)相當(dāng)成熟。這是應(yīng)為顆粒物體表面積能都比較大，其之間能夠容易進行團聚，曲率半徑卻是小的，因此在顆粒狀物體表面上使用磁控雖然可行，但
發(fā)布時間：2022-08-16 點擊次數(shù)：35
-
磁控濺射鍍膜儀在目前鍍膜行業(yè)中是一種不可缺少的鍍膜器材，目前大部分鍍膜企業(yè)都會有使用到。我們平日生產(chǎn)的時候都是由機器生產(chǎn)，那么大家知道目前的磁控濺射鍍膜儀主要的濺射方式有哪幾種么？下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。磁控濺射鍍膜儀
發(fā)布時間：2022-09-16 點擊次數(shù)：25
-
磁控濺射鍍膜儀是一種常用的薄膜制備設(shè)備，通過濺射金屬靶材產(chǎn)生的高能離子束照射在基板上，形成薄膜。磁控濺射鍍膜儀在薄膜制備過程中，可能會出現(xiàn)漏鍍現(xiàn)象，即未被覆蓋的區(qū)域出現(xiàn)了薄膜沉積，造成薄膜的不均勻性。漏鍍現(xiàn)象通常由以下幾個原因造成：靶材表面
發(fā)布時間：2024-03-29 點擊次數(shù)：17
-
隨著科技的發(fā)展，使用磁控濺射鍍膜儀對顆粒狀物體鍍膜已經(jīng)不再是一件難事。特別是在顆粒狀金屬物體表面使用鍍膜技術(shù)已經(jīng)相當(dāng)成熟。這是應(yīng)為顆粒物體表面積能都比較大，其之間能夠容易進行團聚，曲率半徑卻是小的，因此在顆粒狀物體表面上使用磁控雖然可行，但
發(fā)布時間：2019-05-13 點擊次數(shù)：64
-
目前我國磁控濺射鍍膜儀市場銷售非常火熱，這是一項熱門的新技術(shù)，它帶給企業(yè)和廠家的不僅僅是技術(shù)，還能夠節(jié)省大量的人工運作成本，因此深受廣大用戶的青睞。磁控濺射鍍膜設(shè)備可制備多種薄膜，不同功能的薄膜，還可沉積組分混合的混合物、化合物薄膜；磁控濺
發(fā)布時間：2019-05-13 點擊次數(shù)：82
-
我們知道每一種鍍膜方式的不同都有不一樣的差異，這處理根據(jù)鍍膜的方式不同之外，還跟所鍍的材料有關(guān)系，這種差別我們很難看出來，因為根據(jù)目前的鍍膜行業(yè)中的一些高端設(shè)備，比如說磁控濺射鍍膜儀，都是屬于比較精細的一種鍍膜機械。那么在現(xiàn)今的發(fā)達科技中，
發(fā)布時間：2019-05-13 點擊次數(shù)：60
-
磁控濺射鍍膜儀有幾種類型？磁控濺射鍍膜儀有很多種。它們有不同的工作原理和應(yīng)用對象。但有一個共同點：利用磁場和電場的相互作用，電子會在靶表面盤旋，從而增加電子撞擊氬產(chǎn)生離子的概率。在電場的作用下，產(chǎn)生的離子與靶材表面發(fā)生碰撞，飛濺出靶材。目標
發(fā)布時間：2021-04-21 點擊次數(shù)：81
-
磁控濺射鍍膜儀當(dāng)然有輻射，1、可見光波段：陰極發(fā)射的電子電離介質(zhì)氣體分子，分子/原子光譜。這些光密度不大，不至于刺傷鈦合金狗眼.屬于無害輻射。2、不可見光波段：陰極發(fā)射的電子電離介質(zhì)氣體分子，紅外/紫外，分子/原子光譜。紫外輻射有害3、
發(fā)布時間：2022-06-10 點擊次數(shù)：55
-
磁控濺射鍍膜儀技術(shù)發(fā)展過程中各項技術(shù)的突破一般集中在等離子體的產(chǎn)生以及對等離子體進行的控制等方面。通過對電磁場、溫度場和空間不同種類粒子分布參數(shù)的控制，使膜層質(zhì)量和屬性滿足各行業(yè)的要求。膜厚均勻性與磁控濺射靶的工作狀態(tài)息息相關(guān)，如靶的刻蝕狀
發(fā)布時間：2022-09-16 點擊次數(shù)：29
-
磁控濺射鍍膜儀是一種常用的薄膜制備裝置，通常用于制備表面鍍膜或者薄膜材料的研究與應(yīng)用。在選擇磁控濺射鍍膜儀的目標材料時，有以下幾個要素需要考慮：物理性質(zhì)：選擇目標材料時，首先需要考慮材料的物理性質(zhì)。例如，材料的熔點、硬度、導(dǎo)電性、熱導(dǎo)率等物
發(fā)布時間：2023-12-21 點擊次數(shù)：16
